Определение параметров p-n перехода (работа 2)
«МАТИ»-РГТУ
им. К. Э. Циолковского
тема: «Определение параметров p-n перехода»
Кафедра: "Xxxxxxxxxx xxxxxxxxxx
xxxxxxxxxxxxxxxx"
Курсовая работа
-
студент Хxxxxxxx X. X. группа XX-X-XX
дата сдачи
оценка
г. Москва 2001 год
Оглавление:
-
1. Исходные данные
3
2. Анализ исходных данных
3
3. Расчет физических параметров p- и n- областей
3
а) эффективные плотности состояний для зоны проводимости и валентной зоны
3
б) собственная концентрация
3
в) положение уровня Ферми
3
г) концентрации основных и неосновных носителей заряда
4
д) удельные электропроводности p- и n- областей
4
е) коэффициенты диффузий электронов и дырок
4
ж) диффузионные длины электронов и дырок
4
4. Расчет параметров p-n перехода
4
a) величина равновесного потенциального барьера
4
б) контактная разность потенциалов
4
в) ширина ОПЗ
5
г) барьерная ёмкость при нулевом смещении
5
д) тепловой обратный ток перехода
5
е) график ВФХ
5
ж) график ВАХ
6, 7
5. Вывод
7
6. Литература
8
1. Исходные данные |
|||||||
1) материал полупроводника – GaAs 2) тип p-n переход – резкий и несимметричный 3) тепловой обратный ток () – 0,1 мкА 4) барьерная ёмкость () – 1 пФ 5) площадь поперечного сечения ( S ) – 1 мм2 6) физические свойства полупроводника |
|||||||
Ширина запрещенной зоны, эВ |
Подвижность при 300К, м2/Вс |
Эффективная масса |
Время жизни носителей заряда, с |
Относительная диэлектрическая проницаемость |
|||
электронов |
Дырок |
электрона m>n>/m>e> |
дырки m>p>/m>e> |
||||
1,42-8 |
0,85-8 |
0,04-8 |
0,067-8 |
0,082-8 |
10-8 |
13,1-8 |
|
2. Анализ исходных данных |
|||||||
1. Материал легирующих примесей: а) S (сера) элемент VIA группы (не Me) б) Pb (свинец) элемент IVA группы (Me) 2. Концентрации легирующих примесей: N>а>=1017м -3, N>д>=1019м -3 3. Температура (T) постоянна и равна 300К (вся примесь уже ионизирована) 4. – ширина запрещенной зоны 5. , – подвижность электронов и дырок 6. , – эффективная масса электрона и дырки 7. – время жизни носителей заряда |
|||||||
8. – относительная диэлектрическая проницаемость |
|||||||
3. Расчет физических параметров p- и n- областей |
|||||||
а) эффективные плотности состояний для зоны проводимости и валентной зоны
б) собственная концентрация
в) положение уровня Ферми (рис. 1) (рис. 2) |
X E>v> E>c> E>i> E>F> E>g> |
X E>v> E>c> E>i> E>F> E>g> |
(рис. 1) |
(рис. 2) |
г) концентрации основных и неосновных носителей заряда |
|
|
|
д) удельные электропроводности p- и n- областей
|
|
е) коэффициенты диффузий электронов и дырок
|
|
ж) диффузионные длины электронов и дырок
|
|
4. Расчет параметров p-n перехода |
|
a) величина равновесного потенциального барьера
б) контактная разность потенциалов
|
в) ширина ОПЗ (переход несимметричный ) |
|
г) барьерная ёмкость при нулевом смещении
д) тепловой обратный ток перехода
|
|
е) график ВФХ |
|
– общий вид функции для построения ВФХ |
|
ж) график ВАХ |
|
|
– общий вид функции для построения ВАХ |
Ветвь обратного теплового тока (масштаб) |
|
Ветвь прямого тока (масштаб) |
|
Вывод. При заданных параметрах полупроводника полученные значения удовлетворяют физическим процессам: - величина равновесного потенциального барьера () равна , что соответствует условию >0,7эВ |
|
- барьерная емкость при нулевом смещении () равна 1,0112пФ т.е. соответствует заданному ( 1пФ ) |
|
- значение обратного теплового тока () равно 1,9210-16А т.е. много меньше заданного ( 0,1мкА ) |
|
Литература: 1. Шадский В. А. Конспект лекций «Физические основы микроэлектроники» 2. Шадский В. А Методические указания к курсовой работе по курсу «ФОМ». Москва, 1996 г. 3. Епифанов Г. И. Физические основы микроэлектроники. Москва, «Советское радио», 1971 г. |